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- 高温観察装置
高温観察装置
高温観察ステージ（TPS）を使用した自己治癒セラミックスの開発、
ニッケルの結晶変化を詳しく動画でご紹介します。
[共通仕様]
- 全てのラインナップで加熱観察が可能
- 炉体密閉構造で雰囲気を選ばす加熱が可能（大気中、ガスフロー中、真空中での加熱が可能）
- 高速加熱・冷却が可能 1000℃以下において50℃/secの加熱が可能（条件によります）
- ランプ加熱の為クリーンな加熱が可能
- 自動ガス置換を含めPC上のボタン操作1つで自動運転が可能（オプション）
ＩＲイメージ炉
ＩＲ－ＨＰ
[主な特長]
- 6方向からの急速加熱で従来の加熱炉に比べ温度分布領域を飛躍的に拡大。（観察の場合は5方向）
- 100mmの大型試料ホルダー標準装備（加熱範囲70×70×5tmm程度）
- 上部観察に加え側面からの観察も可能。
[主な仕様]
| 温度範囲 | +50℃～1400℃ |
|---|---|
| HP2-9 | 1200℃ |
| HP2-12 | 1300℃ |
| HP2-18 | 1400℃ |
実装分野への応用
微小実装部品等の焼成を従来の炉では困難だった高速で自由な焼成パターンで実現できます
その場観察
水冷されたチャンバー構造に観察用の窓を設ける事で、従来の炉では困難だった高性能なレンズを使用して観察が可能です
金属薄板の熱処理
高速から低速までの自由な加熱・冷却による鉄鋼板等の熱処理のシミュレーション等が行えます
ＩＲイメージ炉
ＩＲ－ＱＰ
[主な特長]
- 到達最高温度1700℃を実現。
- 4方向からの急速集光加熱で、秒速高温加熱を実現。
[主な仕様]
| 温度範囲 | +50℃～1700℃ |
|---|---|
| QP1-4 加熱範囲 | 約50W×10D×10Hmm |
| QP2-8 加熱範囲 | 約70W×10D×10Hmm |
セラミックス分野での研究・開発
従来の炉では困難だった、高速で自由な焼結・焼成パターンが実現できます
その場観察
水冷されたチャンバー構造に観察用の窓を設ける事で、従来の炉では困難だった高性能なレンズを使用して観察が可能です
金属合金の開発
高速から低速までの自由な加熱・冷却と最高1700℃による合金開発
ＩＲイメージ炉
ＩＲ－ＴＰ
[主な特長]
- WDを短くし顕微鏡での使用を可能にしました。
[主な仕様]
| 温度範囲 | +50℃～1300℃ |
|---|---|
| 加熱範囲 | φ20×2tmm又は20×20×2tmm |
高倍率でのその場観察を実現
顕微鏡の高倍率観察による加熱状態での微細な変化を観察できます
高温引張・圧縮への応用
炉チャンバーポートより試験機ロッドを導入可能
ＩＲイメージ炉
ＭＳ－ＴＰＳ
[主な特長]
- コンパクトでWDが短い為、顕微鏡のステージに乗せて加熱が可能。
- 低電力の為100Vコンセントで使用可能。
[主な仕様]
| 温度範囲 | +50℃～1500℃ |
|---|---|
| 試料容器 | 外径φ6.5×4tmm |
高倍率でのその場観察を実現
顕微鏡の高倍率観察による加熱状態での微細な変化を観察できます
Ｘ線分析・回折装置やラマン分光装置への搭載
コンパクトで水冷された炉体は周囲への熱の影響がない為、最大1500℃の加熱をしながらの分析・回折が行えます
ＩＲイメージ炉
MS-18SP
[主な特長]
- ランプ部だけをガス冷却する事により高効率な加熱を実現。
- コンパクトな炉体で1800℃迄の加熱を実現。
- 炉体水冷構造の為、高速な冷却速度で高スループットが可能。
[主な仕様]
| 温度範囲 | +50℃～1800℃（1800℃での保持も可能） |
|---|---|
| 試料容器 | 外径φ6.5×4tmm又は外径φ9×4tmm |
小型加熱・冷却観察ステージ
ＭＨＯ３００
[主な特長]
- 顕微鏡のステージに搭載可能
- 温度範囲-100～100℃間をシームレスに温度コントロール可能
- 冷却過程の温度制御が可能
[主な仕様]
環境試験への応用
自由な環境温度での変化をその場観察が可能
サンプル形状に合わせた炉体製作
サンプルサイズや加熱のみ冷却のみ等のご要望に合わせた製作が可能です
試験中の電気的な変化の測定
Ｐｔ線等の電極の導入により、抵抗値等の変化を取り出せます
中赤外線ランプ式加熱炉
ＭＩＲ－ＨＰ
[主な特長]
- 中赤外線による加熱エネルギーで水分や高分子の加熱に最適
- 水冷チャンバーにより従来炉に比べて高速な冷却が可能
- 観察窓の搭載によりその場観察が可能
[主な仕様]
乾燥工程の観察
自由な温度パターンで乾燥していく状態を観察できます
高分子の熱変性の状態を観察
フィルム等の熱による変化を観察できます
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